請教hfss模擬高阻抗表面光子晶體問題

1、用hfss模擬高阻抗表面光子晶體或mushroom光子晶體的色散圖時，其貼片上方的邊界如何設(shè)定？
2、如用pml截斷，那么該層取在高度為何處？pml的參數(shù)設(shè)定是用默認值嗎，有何理論依據(jù)？
3、還有，如果我將貼片上方設(shè)成理想電壁截斷，那么電壁懸在什么高度？
希望得到大俠們的指教！先謝了！

幫頂一下
歡迎有這方面經(jīng)驗的高人回答

我自己頂一下

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我也需要這方面的知識 請高人指點呀 急..

最近也想了解一下高阻抗表面，不知道怎么建模，幫頂一下。

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